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Equipement: PROFILOMETRE DEKTAK VEECO 8 2 stylets : rayons de courbure 50 nm et 2.5 µm Option hauteur maximum échantillon : 76.2 mm Option N-Lite (faible force) de 0.03 mg à 2 mg soit de 0.3 µN à 19.6µN   Responsable technique: Nicole LANGLOIS +(33) 02 40 37 64 43 Responsables scientifiques : Pierre-Yves TESSIER +(33) 02 40 37 64 34  Benoît ANGLERAUD +(33) 02 40 37 64 43

 

Image 3D d'une piste métallique de 900 nm d'épaisseur et 500 µm de largeur

sur un substrat en verre.

Rôle et applications typiques :

Mesure d’épaisseur de couches minces de quelques nm à 260 µm Mesure de rayon de courbure de surface Mesure de rugosité Images 3D de surface : Topographie et Métrologie des surfaces Mesure de contraintes résiduelles de film, grâce à l’analyse de la courbure de plaquette avant et après dépôt du film

 

Principales caractéristiques

Résolution en épaisseur maximum : 1 nm Gammes de mesures verticales : 262 µm - 65.5 µm - 6.5 µm Longueur de balayage réglable : 50 µm à 50 mm Force d’appui du stylet : 0.03 mg à 15 mg Durée de balayage réglable : 3 s à 200 s Résolution latérale maximum : 3.3 nm Taille platine : 200 mm Poids de l’échantillon maximum : 2.5 kg

 

 

Exemples
Mesure sur un réseau de trous d'espacement 10 µm et de profondeur 200 nm	Mesure du rayon de courbure d'un wafer de silicium ( environ 36 m )
Vue de la platine porte-échantillon.	Vue de la tête de mesure