Plasmas et Couches Minces (Groupe PCM)

L'équipe Plasmas et Couches Minces mène des recherches sur le développement de procédés plasmas froids. La stratégie de recherche fait appel à d’autres procédés physico-chimiques que les plasmas seuls : sol-gel, désalliage chimique. L’étude fine des mécanismes d’interaction plasmas/surface, la mise au point de nouveaux procédés plasmas, la mise en œuvre de modélisation en appui de l’activité expérimentale et l’optimisation de la synthèse d’un matériau à propriété donnée sont au cœur des activités de l’équipe.  Les projets de recherche concernent une large palette de secteurs :
-microélectronique,
-micro- et nano-technologie,
-opto-électronique,
-capteurs,
-énergie,
-revêtements et traitements de surface.

                 

Les activités sont structurées selon trois thèmes de recherche : la gravure, le dépôt de couches minces et de nano-objets et nano-matériaux qui s’appuient sur un thème transversal de modélisation.

L’équipe collabore avec des partenaires extérieurs qui disposent des moyens technologiques de microfabrication pour l’intégration des matériaux dans un dispositif

 Réacteurs plasmas basse pression de gravure et de dépôt utilisés par l'équipe

Pulvérisation cathodique réactive (PVD)       
- 4 réacteurs (PEPVD) magnétron soit DC, RF, IPVD, HiPIMS
- 1 cluster avec sas et 2 chambres : 1 PECVD/PVD (ICP + 3 cathodes) et 1 chambre PVD 4 cathodes (3’’) + substrat polarisable RF chauffé (max 800°C)
- 1 réacteur avec sas et 3 cathodes magnétron 4’’ (site de La Chantrerie, Polytech)
- 2 réacteurs de pulvérisation cathodique mutualisés IMN  

PECVD                                                  
-1 réacteur ICP de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), avec 3 lignes injection organo-métalliques et 1 système d’injection solution liquide (DLI)

Gravure
- 2 réacteurs ICP chloré, fluoré, hydrocarboné, précurseurs organiques  (Alcatel, Nextral)
- Plateforme Optimist, porte-échantillon -180°/+1100°C