RHALLABI Ahmed

Professeur des Universités

Fonction : 

Professeur des universités 1ère classe, 63ème section CNU

Expertises :

• Expert dans le domaine de la modélisation des procédés plasmas froids pour le dépôt et la gravure des couches minces.
• Expert dans le domaine de la physique des semi-conducteurs et de la microélectronique.
• Expert dans le domaine des méthodes numériques pour la physique.

Principale thématique de recherche :

Modélisation des phénomènes d’interactions plasmas surfaces pour la gravure et le dépôt des couches minces : développement d’approches multi-échelles

Projets de recherche en cours :

• Approche multi-échelle pour la modélisation de la gravure de GaN par le procédé Atomic Layer Etching (ALE) en collaboration avec ST Microelectronics.
• Modélisation multi-échelle du plasma en pulvérisation magnétron à impulsions de haute puissance (HiPIMS)
• Modélisation et conception d’un capteur intelligent de gaz à base d’oxydes de métaux déposés par procédé PVD

Activités dans la communauté de recherche :

• Responsable adjoint de l’équipe Plasmas et Couches Minces.
• Membre élu du conseil scientifique de l’IMN
• Membre élu du conseil scientifique de l’UFR Sciences
• Membre du conseil de département de physique

Biographie :

Je suis titulaire d’un DEA en Instrumentation et Mesures, obtenu en 1988 à l’Université Joseph Fourier de Grenoble. En 1992, j’ai soutenu une thèse de doctorat en Sciences des Matériaux, spécialité microélectronique, à l’Université de Nantes. En 1993, j’ai été nommé Maître de conférences à l’IRESTE (aujourd’hui Polytech Nantes), puis promu Professeur des Universités en 2007 au sein du département de physique de la Faculté des Sciences et Techniques de Nantes Université. J’assure actuellement la responsabilité du Master Electronique, Énergie Électrique, Automatique (EEA). Mes enseignements couvrent plusieurs domaines clés : l’électronique analogique, les semi-conducteurs, la microélectronique, la nanoélectronique, la modélisation numérique, ainsi que les procédés de fabrication des circuits intégrés.

Sur le plan de la recherche, je suis rattaché à l’Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN) depuis 1989. J’y exerce les fonctions de responsable adjoint de l’équipe Plasmas et Couches Minces (PCM). Avec mes doctorants, nous avons développé des modèles et algorithmes innovants pour la modélisation des décharges plasmas et de leurs interactions avec les surfaces gravées. Ces travaux incluent notamment la méthode globale pour la description de la cinétique des plasmas, ainsi que la méthode cellulaire Monte-Carlo permettant de simuler les interactions plasma-surface dans les procédés de gravure à l’échelle micro- et nanométrique. Cet ensemble de codes a permis de structurer une approche multi-échelle innovante pour la gravure des matériaux aux échelles micronique, nanométrique et atomique.

Enseignement :

• Enseignements sous forme de cours de TD et TP autour de la physique des semiconducteurs, de l’électronique analogique, de la microélectronique, des technologies de fabrication des circuits intégrés, de la CAO et CTAO électronique et de la modélisation physique.
• Responsable du Master mention EEA (1 parcours commun Master1 et 3 spécialités en Master2)
• Responsable du parcours M2 Capteurs Intelligents et qualité des Systèmes Electroniques
• Des cours à l’étranger
• Mise à la disposition des étudiants des enregistrements vidéos de cours
• Encadrement de 18 TER M1 Electronique (2 mois par TER) (2007-2016)
• Encadrement de 21 projets pédagogiques en M2 CEO et M2 CISE (3 mois par projets) (10 depuis 2017)
• Mise en place de plusieurs projets pédagogiques (Exemple : station météo autonome installée au campus de l’UFR Sciences et développement d’une calèche électrique à partir de deux vélos récupérés dans une approche écoconception (en cours).

Publications :

• 61 revues internationales avec comité de lecture
• 103 conférences internationales
• 42 conférences nationales
• 16 conférences invitées
• 12 séminaires en France et à l’étranger
• 20 rapports de contrats
• 1 chapitre d’ouvrage

Publications majeures illustratives :

• T.Rasoanarivo, C.Mannequin, F.Roqueta, M.Boufnichel, and A. Rhallabi,Dynamic global model of Cl2/Ar plasmas: applicability to Atomic Layer Etching processes, J. Vac. Sci. Technol. A 42, 063003 (2024).
• G. Le Dain, A. Rhallabi, C. Cardinaud, A. Girard, M.C. Fernandez, M. Boufnichel, F. Roqueta, Modeling of silicon etching using Bosch process : Effects of oxygen addition on the plasma and surface properties, J. Vac. Sci. Technol. A36, 03E109 1-11 (2018).
• J. Zgheib, P-Y. Jouan, A. Rhallabi, High Power Impulse Magnetron Sputtering global model for argon plasma chromium target interactions, J. Vac. Sci. Technol. A 39, 043004 (2021).
• M. Cosson, B. David, L. Arzel, P. Poizot, A. Rhallabi, Modelling of electrochemical storage and photovoltaic production in an autonomous solar drone, eScience,  2, 235-241 (2022).
• Réalisation d’un simulateur de gravure profonde de silicium par procédé Bosch avec une interface conviviale

Lien vers orcid : https://orcid.org/0000-0003-0855-9995

Lien LinkedIn : https://www.linkedin.com/in/ahmed-rhallabi-8562992a/