BEJI Hiba
Fonctions :
Chercheur junior (post-doctorant), Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (depuis janvier 2025)
Qualifications :
- Doctorat en Milieux Denses et Matériaux, Université Clermont Auvergne (2020–2024)
- Master en Physique Fondamentale et Applications, spécialité Matière et Rayonnement, Université d’Orléans (2018–2020)
Expertises :
- Élaboration de couches minces par PVD
- Traitement de surface des semi-conducteurs : Nitruration par plasma N2
- Gravure de couches atomiques (ALE Atomic Layer Etching) de matériaux
- Techniques avancées de caractérisation (ARXPS, RBS, FTIR, UV-Vis, ellipsométrie AFM, MEB, DRX)
Projets de recherche en cours :
Développement d’un procédé ALE pour la gravure sélective de β-Ga₂O₃
Biographie :
Chercheuse junior en physique et chimie des matériaux, à l’Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN). Ses recherches actuelles portent sur le développement de procédés de gravure atomique (ALE) de matériaux tels que le β-Ga₂O. Ses travaux portent notamment sur l’étude des interactions plasma-surface et la caractérisation avancée post-gravure (XPS, AFM, MEB, DRX…).
Enseignement :
Université Clermont Auvergne – 135h de mission de vacation (2021–2023)
Publications :
1 publication scientifique
ARXPS intensity modeling of SiNx ultrathin layer grown on Si (100) and Si (111) substrates by N₂ plasma treatment, Thin Solid Films, 798 (2024) 140388
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140388
Lien vers publi HAL : https://hal.science/search/index?q=Hiba+Beji
Lien LinkedIn : www.linkedin.com/in/hiba-beji-095971194
