GOULLET Antoine

Professeur des Universités

Fonctions :

Enseignant chercheur à Polytech Nantes, Directeur adjoint recherche du pôle Sciences et Technologies de Nantes Université

Qualifications :

Professeur des Universités, CE1, 63 CNU

Expertises :

• Procédé de dépôt PECVD de matériaux diélectriques oxydes en couches minces.
• Couches minces Nanocomposites.
• Ellipsométrie UV-Visible et spectroscopies optiques.
• Technologies de composants en couches minces.

Principales thématiques de recherche :

• Développement de procédés hybrides innovants associant plasma (PECVD) basse pression et injection de solutions colloïdales pour le dépôt de matériaux nanocomposites
• Propriétés optiques, électriques et catalytiques de nanocomposites oxydes (TiO2(NPs)/SiO2 (Matrice) ; ZnO (NP)/SiO2(matrice) ; FeOy (NPs)/ TiO2 (matrice),….) : de la dispersion du nano-objet aux propriétés multifonctionnelles

Projets de recherche en cours :

• Projet ANR ADN : Advanced Dielectric Nanocomposite thin films processed by hybrid aerosol / low pressure plasma for microelectronic capacitor applications (2025-2028), en collaboration avec LAPLACE de Toulouse
• Participation à l’encadrement de la thèse de Sarah Hekking en collaboration avec L’université de Montréal (Pr Luc Stafford) et l’IRN-CNRS Nanomatériaux Multifonctionnels Contrôlés
• Couches minces nanocomposites incluant des nanoparticules Fe2O3 dans une matrice TiO2, produites par un processus de dépôt hybride combinant plasma et injection de solution

Activités dans la communauté de recherche :

Membre du GDRI –IRN Nanomatériaux Multifonctionnels Contrôlés

Biographie :

Antoine Goullet est professeur des universités (classe exceptionnelle) à Nantes Université, et membre de l’Institut des Matériaux Jean Rouxel de Nantes (IMN – UMR 6502). Ses travaux de recherche actuels portent principalement sur la synthèse et l’étude des propriétés optiques et électriques de couches minces diélectriques nanocomposites. Ces matériaux sont élaborés par des procédés hybrides innovants, associant l’injection de solutions colloïdales à des dépôts en phase vapeur assistés par plasma (PECVD), opérant à basse pression et basse température. Il est auteur ou co-auteur de plus de 80 publications scientifiques dans des revues internationales. Il a dirigé ou co-dirigé 10 thèses de doctorat soutenues, et encadré trois chercheurs en contrat post-doctoral. Responsable scientifique de plusieurs projets financés par l’ANR, il a également coordonné un projet européen (PHC) et participé à plus de 60 jurys de thèse. Après avoir exercé la fonction de directeur de la recherche de Polytech Nantes (2016–2021), il est depuis janvier 2022 directeur adjoint du pôle Sciences et Technologie de Nantes Université, en charge des questions de recherche.

Enseignement :

En cycle ingénieur à Polytech Nantes dans le département Electronique et Technologies Numériques (ETN) et dans le cycle préparatoire PEIP D à Polytech Nantes, adossé à la formation BUT GEII de l’IUT de Nantes

• Physique des Semiconducteurs (C/TD/TP),
• Microélectronique (C/TD/TP),
• Physique et Technologie (C/TD/TP),
• Suivi de projets ingénieur avec clients industriel,
• Tutorat pédagogique d’apprentis,

A l’interface avec Sciences Humaines et Sociales et ETN :

• Réseau professionnel
• Développement Durable et Responsabilités Sociétales

Publications :

Plus de 80

Publications majeures illustratives :

• Nanoscale dielectric properties of TiO2 in SiO2 nanocomposite deposited by hybrid PECVD method
  C. Villeneuve-Faure, M. Mitronika, A. P. Dan, L Boudou, W. Ravisy, M.P. Besland, M.. Richard-Plouet and A. Goullet
  Nano Express 5 (2024) 5, 015010; DOI 10.1088/2632-959X/ad220d
• Kinetics driving nanocomposite thin-film deposition in low-pressure misty plasma processes
  S. Chouteau, M. Mitronika, A. Goullet, M. Richard-Plouet, L. Stafford, A. Granier
  J. Phys. D: Appl. Phys. (2022) 55, 505303 ; DOI 10.1088/1361-6463/ac9ac2
• Unveiling a critical thickness in photocatalytic TiO2 thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition using real time in situ spectroscopic ellipsometry
  W. Ravisy, M. Richard-Plouet, B. Dey, S. Bulou, P. Choquet, A. Granier and A. Goullet
  J. Phys. D: Appl. Phys. (2021) 54, 445303 ; DOI 10.1088/1361-6463/ac1ec1
• In situ spectroscopic ellipsometry study of TiO2 films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition
  D. Li, M. Carette, A. Granier, J.P. Landesman, A. Goullet
  Appl. Surf. Sc. (2013) 283, 234 ; DOI 10.1016/j.apsusc.2013.06.091
• Optical spectroscopic analyses of OH incorporation into SiO2 films deposited from O2/TEOS plasmas
  A. Goullet, C. Vallée, A. Granier and G. Turban
  J. Vac. Sci. Technol. A (2000) 18, 2452; DOI 10.1116/1.1287152

Lien vers orcid : https://orcid.org/my-orcid?orcid=0000-0001-5411-4351

Lien vers scholar.google.fr : https://scholar.google.com/citations?user=8xWSg2wAAAAJ&hl=fr&oi=ao

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