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Fonctions :

Chercheur junior (post-doctorant), Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (depuis janvier 2025)

Qualifications :

•  Doctorat en Milieux Denses et Matériaux, Université Clermont Auvergne (2020–2024)
• Master en Physique Fondamentale et Applications, spécialité Matière et Rayonnement, Université d’Orléans (2018–2020)

Expertises :

• Élaboration de couches minces par PVD
• Traitement de surface des semi-conducteurs : Nitruration par plasma N2
• Gravure de couches atomiques (ALE Atomic Layer Etching) de matériaux
• Techniques avancées de caractérisation (ARXPS, RBS, FTIR, UV-Vis, ellipsométrie AFM, MEB, DRX)

Projets de recherche en cours :

Développement d’un procédé ALE pour la gravure sélective de β-Ga₂O₃

Biographie :

Chercheuse junior en physique et chimie des matériaux, à l’Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN). Ses recherches actuelles portent sur le développement de procédés de gravure atomique (ALE) de matériaux tels que le β-Ga₂O. Ses travaux portent notamment sur l’étude des interactions plasma-surface et la caractérisation avancée post-gravure (XPS, AFM, MEB, DRX…).

Enseignement :

Université Clermont Auvergne – 135h de mission de vacation (2021–2023)

Publications :

1 publication scientifique

ARXPS intensity modeling of SiNx ultrathin layer grown on Si (100) and Si (111) substrates by N₂ plasma treatment, Thin Solid Films, 798 (2024) 140388
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140388

Lien vers publi HAL : https://hal.science/search/index?q=Hiba+Beji

Lien LinkedIn : www.linkedin.com/in/hiba-beji-095971194

Fonction :

Post-Doctorant

Qualifications :

• Master en Science de la fusion et des plasmas (2018)
• Doctorant en Physique des Plasmas (2022)

Expertises :

Plasma PVD en régime DC (Dirrect Current) et HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)

Principales thématiques de recherche :

• Étude exploratoire d’un nouveau régime plasma l’e-HiPIMS (electron-enhanced High Power Impulse Magnetron Sputtering)
• Création d’une base de données pour l’IA afin de nous aider sur les plans expérimentaux et nous aider sur les relations entre plusieurs paramètre plasma (pression, distance, tension …)

Projets de recherche en cours :

• CHIPS: Combinatorial HiPIMS for Sovereignty (projet CEA – IMN)
• ASTERIX : Technologies de surface avancées pour des matériaux résilients et innovants en environnement extrême (projet PEPR DIADEM, collaboration CEA-LPGP-IMN-SIMaP)

Biographie :

Dimitri Boivin est Post-Dcotorant à l’Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) de Nantes, au sein du groupe Plasmas et Couches Minces (PCM). Spécialiste des dépôts PVD en régime DC et HiPIMS. Il a réalisé son Master à l’université de Lorraine, effectué sa thèse à l’Institut Jean Lamour à Nancy. Il a fait un premier Post-Doctorat au GREMI sur des dépôts de couches minces pour des applications antibactérienne. Il a débuté le 1 Mars 2024 en tant que Post-Doctorant à l’IMN.

Publications :

7

Publication majeure illustrative :

Using a coupled optical and electrical monitoring method to follow the R-HiPIMS TiO2 deposition process drifts. Boivin, D & Jean-Marie-Desiree, Ronny & Najah, Aymane & Cuynet, Stéphane & Poucques, L.. (2024). Physica Scripta. 99. 10.1088/1402-4896/ad3302.

Lien vers orcid : https://orcid.org/my-orcid?orcid=0009-0009-9254-7989

Lien LinkedIn : https://www.linkedin.com/in/dimitri-boivin-92ba59234/