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Maître de Conférences

Expertises :

• Dépôt de couches minces par PVD
• Plasmas froids
• Pulvérisation cathodique magnétron DC et RF
• Spectroscopie d’émission optique
• Profilométrie

Maître de Conférences

Fonctions :

• 2021- : Maître de Conférences (IMN, Nantes Université)
• 2019-2021 : Ingénieur R&D ARMOR/CNRS IMS Pessac
• 2017-2019 : Chercheur postdoctoral, SPECIFIC IKC, Swansea University, Wales, UK
• 2014-2017 : Chercheur postdoctoral, KAUST, Saudi Arabia

Qualifications :

• 2013 PhD of the Université de Toulouse. Title : « Fabrication et caractérisation de nanocristaux de silicium encapsulés dans des matrices siliciées amorphes : rôle des interfaces et de la matrice sur les propriétés structurales, optiques et électriques »
• 2009 Ingénieur INSA Rennes – Matériaux et Nanotechnologies

Expertises :

• Thin films deposition using plasma techniques (Reactive sputtering, DC, RF)
• High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)
• Functionnal oxyde and nitride thin films

Principales thématiques de recherche :

• Plasma deposition for functional materials and energy applications (reactive sputtering)
• Nitride and oxide thin film electrodes for microsupercapacitors and high-power microbatteries
• Reactive magnetron sputtering, high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)
• Thin films for solar cells (interfacial selective layers)
• Thin film and surface characterizations (electron microscopy, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, atomic force microscopy…)

Projets de recherche en cours :

• Bourse doctorale Nantes Université : Perovskite oxide thin films as electrodes for high power microbatteries.
• ANR JCJC PERFORM : Plasma-Processed 3D Electrodes for Microsupercapacitors
• CHIPS : Combinatorial HiPIMS for Sovereignty (projet CEA – IMN)
• ASTERIX : Technologies de surface avancées pour des matériaux résilients et innovants en environnement extrême (projet PEPR DIADEM, collaboration CEA-LPGP-IMN-SIMaP)

Activités dans la communauté de recherche :

• Membre de l’IRN (franco-québécoise) NMC
• Réseau des plasmas froids

Biographie

English:

Jérémy Barbé is a researcher at the Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN), in the Plasma and Thin Films group (PCM), and a teacher in the Materials department at Polytech Nantes (Nantes University). A specialist in functional materials for energy, his research focuses on thin films deposition by plasma methods such as sputtering and HiPIMS, with applications in electrochemical energy storage microdevices, and thin-film solar cells.

After graduating in materials and nanotechnology engineering from INSA Rennes (2009), he obtained a PhD from Paul Sabatier University (Toulouse III) in 2013, with a thesis on the fabrication by PECVD of silicon nanocrystals in thin-film silica matrices, carried out at CEA LITEN and CNRS LAPLACE. He then moved on to various post-doctorates focusing on sol-gel deposition techniques for thin-film solar cells (CIGS, perovskites and organics). These stopovers took him under the burning sun of Saudi Arabia in KAUST (2014-2016), then under the Welsh clouds in Swansea (2017-2019), before joining the ARMOR group and CNRS IMS in Pessac.

In 2021, he joined IMN as a lecturer where he works on the development of innovative thin-film materials used as electrodes for electrochemical energy storage devices. His research focuses in particular on oxides, nitrides and oxynitrides obtained by reactive sputtering (HiPIMS, DCMS…).

Active in the scientific community, he is a member of IRN NMC and the Cold Plasma Network. His work is regularly published and cited in the field of energy materials.

Français :

Jérémy Barbé est maître de conférences à l’Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) de Nantes, au sein du groupe Plasma et Couches Minces (PCM), et enseignant au département Matériaux de Polytech Nantes. Spécialiste des matériaux fonctionnels pour l’énergie, ses recherches portent sur les dépôts plasma, les électrodes pour microsupercondensateurs, ainsi que les cellules solaires à couches minces, notamment organiques et pérovskites.

Diplômé ingénieur en matériaux et nanotechnologies de l’INSA Rennes (2009), il a obtenu en 2013 un doctorat à l’Université Paul Sabatier (Toulouse III), avec une thèse sur la fabrication par PECVD de nanocristaux de silicium dans des matrices silicés en couches minces, réalisée au CEA LITEN et CNRS LAPLACE. Ensuite, il a navigué entre différents postdoctorats consacrés aux techniques de dépôts sol-gel pour les cellules solaires en couches minces (CIGS, pérovskites et organiques). Ces escales l’ont conduit sous le soleil brûlant de l’Arabie Saoudite à KAUST (2014-2016), puis sous les nuages gallois à Swansea (2017-2019), avant de rejoindre le groupe ARMOR, en lien avec le CNRS IMS à Pessac.

En 2021, il a rejoint l’IMN en tant que maître de conférences où il travaille sur la fabrication de matériaux innovants en couches minces utilisées comme électrodes pour les dispositifs de stockage de l’énergie électrochimique. Ses recherches portent notamment sur les oxydes, nitrures et oxynitrures obtenus par pulvérisation réactive (HiPIMS, DCMS…).

Actif dans la communauté scientifique, il est membre de l’IRN NMC et du Réseau des Plasmas Froids. Ses travaux sont régulièrement publiés et cités dans le domaine des matériaux pour l’énergie.

Enseignement : 

• Teaching in Polytech Nantes (semiconductors, thin films, sensors, material characterizations)

Publications :

• 35 articles in peer-reviewed journals

Publications majeures :

• A Lebreton, J Barbé, C Lethien, JN Coleman, T Brousse, Tuning Deposition Conditions for VN Thin Films Electrodes for Microsupercapacitors: Influence of the Substrate Bias Voltage, Journal of The Electrochemical Society 171 (9), 090513, (2024)
• J Barbé, M Newman, S Lilliu, V Kumar, H Ka Hin Lee, C Charbonneau, C Rodenburg, D Lidzey, WC Tsoi, Localized effect of PbI2 excess in perovskite solar cells probed by high-resolution chemical–optoelectronic mapping, Journal of Materials Chemistry A 6 (45), 23010-23018 (2018)
• A Lebreton, C Lethien, JN Coleman, T Brousse, J Barbé, Tuning Deposition Conditions for VN Thin Films Electrodes for Microsupercapacitors: Influence of the Substrate Bias Voltage, Journal of The Electrochemical Society 172 (4), 040523 (2025)
• J Barbé, ML Tietze, M Neophytou, B Murali, E Alarousu, AE Labban, et al., Amorphous tin oxide as a low-temperature-processed electron-transport layer for organic and hybrid perovskite solar cells, ACS applied materials & interfaces 9 (13), 11828-11836 (2017)

Lien vers orcid : https://orcid.org/0009-0003-3366-4567

Lien vers scholar.google.fr : https://scholar.google.com/citations?user=oBvrlzgAAAAJ&hl=fr

Fonctions :

Chercheur junior (post-doctorant), Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (depuis janvier 2025)

Qualifications :

•  Doctorat en Milieux Denses et Matériaux, Université Clermont Auvergne (2020–2024)
• Master en Physique Fondamentale et Applications, spécialité Matière et Rayonnement, Université d’Orléans (2018–2020)

Expertises :

• Élaboration de couches minces par PVD
• Traitement de surface des semi-conducteurs : Nitruration par plasma N2
• Gravure de couches atomiques (ALE Atomic Layer Etching) de matériaux
• Techniques avancées de caractérisation (ARXPS, RBS, FTIR, UV-Vis, ellipsométrie AFM, MEB, DRX)

Projets de recherche en cours :

Développement d’un procédé ALE pour la gravure sélective de β-Ga₂O₃

Biographie :

Chercheuse junior en physique et chimie des matériaux, à l’Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN). Ses recherches actuelles portent sur le développement de procédés de gravure atomique (ALE) de matériaux tels que le β-Ga₂O. Ses travaux portent notamment sur l’étude des interactions plasma-surface et la caractérisation avancée post-gravure (XPS, AFM, MEB, DRX…).

Enseignement :

Université Clermont Auvergne – 135h de mission de vacation (2021–2023)

Publications :

1 publication scientifique

ARXPS intensity modeling of SiNx ultrathin layer grown on Si (100) and Si (111) substrates by N₂ plasma treatment, Thin Solid Films, 798 (2024) 140388
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140388

Lien vers publi HAL : https://hal.science/search/index?q=Hiba+Beji

Lien LinkedIn : www.linkedin.com/in/hiba-beji-095971194

Directrice de recherche CNRS

Fonctions :

• Directrice de Recherche CNRS en section 08 (ancienne section)
• Oct. 2019 - Adjointe au Directeur Scientifique Référent (ADSR), sites Limousin-Poitou et La Rochelle
• Oct. 1988 Recrutement CR2 CNRS Ecole Centrale de Lyon

Qualifications :

• 2008 Habilitation à Diriger les Recherches- Université de Nantes (20 Janvier 2008) : « Matériaux en Couches minces par Procédés Plasma »
• 1989 Docteur Université Montpellier-Sciences des Matériaux (13 avril 1989)
• 1985 Ingénieur ENSCM (Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Montpellier) (Juin 1985) - Option Chimie des Matériaux et DEA Sciences des Matériaux
• 1983   Maitrise Chimie - Université Nantes

Expertises :

• Matériaux en couches minces par procédés assistés plasma (PEPVD, PECVD),
• Corrélations Procédé-Matériaux,
• Matériaux Diélectriques, Oxydes binaires, ternaires, quaternaires, Chalcogénures, Nitrures, Oxynitrures,
• Interfaces, Dispositifs pour la micro-électronique, l’Energie, la Photocatalyse,
• Caractérisations structurales et physico-chimiques (XPS, AFM)

Principales thématiques de recherche :

Mon projet d’entrée au CNRS (1988) était l’optimisation de l’interface SiO2/InP, j’ai ainsi développé (1988-1996) la Passivation des matériaux III-V : traitements de surface, oxydation et nitruration par plasma puis dépôt de diélectrique (SiO2 et SiNx) par procédés plasma froids PECVD-ECR (1988-2000). En parallèle (2000-2003), j’ai mis en œuvre un réacteur de gravure ICP pour la gravure de nitrures d’éléments III (III-N) en chimie Chlore.

AlN pour le management thermique : initiée en 2005 avec M.A. Djouadi (IMN) dans le cadre d’une thèse CIFRE avec Thales III-V Lab (S. Delage, C. Brylinski), il s’agissait de réaliser des couches minces d’AlN, bon conducteur thermique pour des transistors de puissance hyperfréquence, HEMT piézo-électrique à base de GaN (HEMT GaN), afin d’assurer le management thermique et la passivation primaire (Barrière de diffusion et évacuation de la chaleur générée en fonctionnement). Au cours de deux thèses (C. Duquenne-2008 (CIFRE Thales) ; B. Abdallah-2009 (Gvt Syrien)), le dépôt d’AlN et ses propriétés thermiques ont été optimisés. En collaboration avec le CRHEA (Sophia Antipolis), l’obtention d’AlN en épitaxie sur AlGaN et sur AlN a été démontrée (substrats MBE-CRHEA). (2005-2012)

Oxydes complexes par Pulvérisation Magnétron. Cette thématique a été initiée avant mon arrivée par P.Y. Tessier et L. Brohan au cours de la thèse de M-W CHU (2002). Dès mon arrivée en mutation à Nantes (2003-2008), j’ai mis en place un réacteur dédié (2003) et ai poursuivi la thématique jusqu’en 2008. Les résultats obtenus ont confirmé la pertinence de la pulvérisation magnétron pour le dépôt de matériaux ternaires et quaternaires, en particulier comparée à l’ablation laser (PLD) qui limite les surfaces de dépôt au cm2. Ceci a constitué la base des études suivantes sur d’autres matériaux, dans le cadre de deux thèses à visée applicative et industrielle (Emeline Souchier (BDI CNRS-ST Microelectronics, 2006-2010) : étude du dépôt du matériau GaV4S8 en collaboration PCM/PMN et Fatiha Challali, (2007-2010) (Thèse CIFRE MHS) : étude du dépôt d’oxydes à haute constante diélectrique (BST, TiTaO) et forte résistance (TiON). Ces études ont été initiatrices de la thématique sur les isolants de Mott. (2003-2011)

Les isolants de Mott sont des matériaux aux propriétés exceptionnelles, leur obtention en couche mince a ouvert la voie à de nombreuses applications. Une nouvelle électronique, nommée « Mottronique », permet la production de mémoires de Mott intégrées sous forme de couches minces pour le stockage d’informations (Projet IPCEI) ou encore la fabrication de réseaux de neurones et synapses économes en énergie pour l’intelligence artificielle (Projet région Mott-IA). (2005-2025)

Les matériaux pour l’énergie constituent une nouvelle orientation des activités de l’équipe PCM (Plasma Couches Minces) en collaboration avec ST2E (Stockage et Transformation Electrochimique de l’Energie) dans le domaine du micro-stockage de l’énergie. Il s’agit, en particulier, d’apporter la versatilité des procédés assistés plasma pour l’élaboration de matériaux pour micro-supercondensateurs et micro-batteries. (2021 -2027)

Projets de recherche en cours

• 2023-2027 ANR NACELL : Resp. Scientifique IMN, Post-doc 12 mois, 118 K€
• 2023-2027 Contrat Européen IPCEI avec ST-Microelectronics (porteur PMN)
• 2022-2027 Projet région Mott-IA (2,5 M€) Porteut L. Cario (PMN)
• 2024-2028 ANR ADN, Porteur C. Villeneuve (LAPLACE)

Activités dans la communauté de recherche :

• 2024-2025    Co-responsable GT « Matériaux », 2ème Enquête Microélectronique pour DRE CNRS
• 2018-2019    Co-responsable GT « Matériaux », Initiative Microélectronique pour INSIS-CNRS
• 2016-2023    Membre nommée au comité National CNRS, section 08 : 2016-2021 et 2021-Juin 2023
• 2016-2022    Directrice du GDR 3660 OXYFUN, Membre du bureau (Janvier 2014-Juillet 2016)
• 2015-2019    Représentante CNRS au CA INSA Centre Val de Loire
• 2005- 2013   Membre du bureau du C’Nano Nord-Ouest, correspondante région Pays de la Loire
• 2005- 2013   Correspondante Valorisation IMN auprès DR17-CNRS 
• 2016-2025   Membre de 23 Comités de sélection (COS)
• 2008-2025   Participation à 100 jurys de thèses (86) et HDR (14) dont 60 Rapports

Activités d’expertise :

• 2017 - 2024 : Membre Comités d’Evaluation HCERES : LPICM (Palaiseau) ; XLIM (Limoges) ;
• GREMAN (Tours) ; CRHEA, Nice ; UDSMM (UCLO), GEMaC (UVSQ), GeePs (Paris Saclay)
• 2018 - 2025 : expertise projets ANR pour CES 08, CES 09, CE24, ANR ASTRID, CE05 (13 Projets)
• 2015 - 2017 : Evaluation pré-projets (78 Projets) et membre CEP ANR (CES 09) Défi 3 (30 projets)
• 2009 -2014 : Membre Comité Evaluation ANR P3N puis P2N : 2009, 2010, 2011,
• Comité Evaluation ANR Blanc SIMI 4 (2013), 2 comités AERES (section 08 CNRS, 2014)
• 2010 - 2014, 2018 : Revues de projets ANR à mi-parcours (30 projets) et Expertise 18 projets ANR
• Autres expertises : DFG Elan (Germany) ; Fonds Collège-Industrie Québec (Canada) ; 2015 : Nano IDF et projet IDEX pour Université Strasbourg ; 2016 : Projet BQR INSA Lyon ; 2019 : Univ. Lyon et Marseille; 2018-2019 : Projets CEFIPRA (Collaboration France-Inde) ;

Biographie :

Dans toutes mes activités, j’ai le souci du collectif, de l’interdisciplinarité et un certain goût du risque. Physico-chimiste des matériaux et Directrice de recherches CNRS à l’Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN) : après une maîtrise de chimie à Nantes, un diplôme d’ingénieur de l’Ecole Nationale Supérieure de Chimie de Montpellier (ENSCM) et un doctorat en Sciences des Matériaux à Montpellier, j’intègre le CNRS en 1988 à l’Ecole Centrale de Lyon au laboratoire LPCI puis LEAME (devenu LEOM, puis INL). En charge d’un réacteur de dépôt PECVD-ECR, j’ai développé des procédés de passivation des Semi-conducteurs III-V et dépôt en couche mince de matériaux diélectriques pour la Microélectronique. Arrivée en mutation en 2003 à Nantes, j’ai obtenu une habilitation à diriger des recherches en 2008 « Du matériau fonctionnel au dispositif », et développé des procédés de dépôt par pulvérisation magnétron réactive pour de nombreux et nouveaux matériaux pour la réalisation de dispositifs pour plusieurs domaines (Microélectronique, Energie, Photocatalyse). Depuis plus de 20 ans, au sein du groupe développant les isolants de Mott, et plus largement au sein de l’équipe PCM, j’apporte mon expérience dans le domaine des matériaux en couche mince. Les travaux du groupe ‘’Mottronics’’ (PMN/PCM) sur les isolants de Mott aux propriétés exceptionnelles ont été récompensés par le prix Félix Robin 2023, décerné par la Société française de physique au groupe de cinq permanents impliqués pendant les JMC 2024 à Marseille.

Enseignement :

• 2008-2018 : Co-Responsable du module « Couches Minces : Elaboration, caractérisations et Applications » (20h), Master NanoSciences Nord-Ouest, avec M. Guilloux-Viry (ISCR Rennes).
• 2018-2023: Intervention (2h30/an) en Master 1, ITI MPP, IUT de Nantes
• 2023, 2024: Intervention ’’New materials and applications’’ Summer School, Beijing Institut of Technology (BIT) département de Physique, Pekin, Chine (~30h de cours).
• 2025 : Interventions à Pekin et Zuhai (nouvelle université au Sud de la Chine) (2 x 25 h de cours)

• Distinction

2023 : prix Félix Robin de la Société Française de Physique

Publications :

Mai 2025 : 94 publications, 5 brevets (dont 2012, 2014), plus de 140 communications orales (52 en oratrice) ; 15 conférences invitées (oratrice) en congrès internationaux, plus de 250 communications en congrès.

Publications majeures illustratives :

Michael Rodriguez-Fano, Mohamad Haydoura, Julien Tranchant*, Etienne Janod, Benoît Corraze, Pierre-Yves Jouan, Laurent Cario and Marie-Paule Besland*, Enhancing the resistive memory window through band gap tuning in the solid solution (Cr1-xVx)2O3, ACS Applied Materials & Interfaces, 15, 54611-54621 (2023).

M. Mitronika, C. Villeneuve-Faure*, F. Massol, L. Boudou, W. Ravisy, M.P. Besland, A. Goullet, M. Richard-Plouet, TiO2-SiO2 mixed oxide deposited by low pressure PECVD: insights on optical and nanoscale electrical properties, Applied Surface Sciences, 541 (2021) 148510.

F. Challali*, D. Mendil, T. Touam, T. Chauveau, … M.-P. Besland; Effect of RF sputtering power and vacuum annealing on the properties of AZO thin films prepared from ceramic target in confocal configuration, Mat. Sci. Semicond. Proc., 118, 105217, 2020.

E. Janod*, J. Tranchant, B. Corraze, M. Querré, P. Stoliar, M. Rozenberg, T. Cren, D. Roditchev, V. Ta Phuoc, M. P. Besland and L. Cario; Resistive switching in Mott insulators and correlated systems (Invited Review) Advanced Functional Materials, 25 (40) SI, 6287-6305 (2015)
(DOI: 10.1002/adfm.201500823)

Han Jun-Feng*, Liao Cheng, Cha Limei, Jiang Tao, Xie Hua-Mu, Zhao Kui, M.-P. Besland*, TEM and XPS studies of CdS/CIGS interfaces, Journal of Physics & Chemistry of Solids 75 (2014) 1279–1283.

J. Tranchant*, A. Pellaroque, E. Janod, B. Angleraud, B. Corraze, L. Cario, M.-P. Besland*, Deposition of GaV4S8 thin films by H2S/Ar reactive sputtering for RRAM applications, Journal of Physics D: Applied Physics 47 (6), 065309 (2014).

A. Rouahi*, A. Kahouli, F. Challali, M.-P. Besland, C. Vallée, B. Yangui, S. Salimy, A. Goullet, A Sylvestre*, Impedance and electrical modulus study of amorphous TiTaO thin films: Highlight of the interphase effect, J. Phys. D: Appl. Phys. 46 065308 (2013) (doi:10.1088/0022-3727/46/6/065308)

C. Duquenne, M. P. Besland*, P.Y. Tessier, E. Gautron, D. Averty, Y. Scudeller, Thermal Conductivity of Aluminum Nitride Thin Films prepared by Reactive Magnetron Sputtering, J. Phys. D: Appl. Phys. 45, 015301 (2012).

E. Al Alam, I. Cortes, M.-P. Besland*, A. Goullet, L. Lajaunie, P. Regreny (INL), Y. Cordier, J. Brault (CRHEA), A. Cazarre, K. Isoird, G. Sarrabayrousse, F. Morancho (LAAS), Effect of surface preparation and interfacial layer on the quality of SiO2/GaN interfaces; J. Appl. Phys., 109, 084511 (2011).

M. Lapeyrade, M.P. Besland*, C. Meva’a, A. Sibai (LPM-INSA-Lyon), G. Hollinger (LEOM-ECL), Silicon nitride thin films deposited by Electron Cyclotron Resonance Plasma, J. Vac. Sci. Technol., A 17(2), 433-444 (1999).

M.P. Besland*, S. Jourba, M. Lambrinos, P. Louis, P. Viktorovitch, G. Hollinger (LEAME-ECL), Optimized SiO2/InP structures prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma, J. Appl. Phys., 80, 3100, (1996).

G. Hollinger*, D. Gallet, M. Gendry (LEAME-ECL), M.P. Besland, J. Joseph (LPCI), Evidence for a new passivating indium rich phosphate prepared by ultraviolet/ozone oxydation of InP, Appl. Phys. Lett., 59, 1617, (1991).

M.P. Besland*, C. Guizard, N. Hovnanian, A. Larbot, L. Cot (LPCM-ENSCM-Montpellier), J. Sanz, I. Sobrados, M. Gregorkiewitz, (CSIC-Institute of Materials-Madrid), Silicon and carbon liquid and solid MAS NMR spectroscopies study of the polycondensation of Heteropolysiloxanes, J. Am. Chem. Soc. 113, 1982-1987, (1991)

Brevets

5 non exploités (1990, 2007, 2009, 2012, 2014) ; Deux déclarations d’invention non abouties (2008, 2010)

Lien vers publi HAL : https://cnrs.hal.science/search/index/?q=authFullName_t%3Abesland&rows=30&sort=publicationDate_tdate+desc

Lien vers orcid :ORCID: https://orcid.org/0000-0002-2680-2402

Lien vers scholar.google.fr : https://scholar.google.fr/citations?user=Ne_tI1wAAAAJ&hl=fr

Lien LinkedIn : https://www.linkedin.com/in/marie-paule-besland-20b880108/

Fonction :

Post-Doctorant

Qualifications :

• Master en Science de la fusion et des plasmas (2018)
• Doctorant en Physique des Plasmas (2022)

Expertises :

Plasma PVD en régime DC (Dirrect Current) et HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)

Principales thématiques de recherche :

• Étude exploratoire d’un nouveau régime plasma l’e-HiPIMS (electron-enhanced High Power Impulse Magnetron Sputtering)
• Création d’une base de données pour l’IA afin de nous aider sur les plans expérimentaux et nous aider sur les relations entre plusieurs paramètre plasma (pression, distance, tension …)

Projets de recherche en cours :

• CHIPS: Combinatorial HiPIMS for Sovereignty (projet CEA – IMN)
• ASTERIX : Technologies de surface avancées pour des matériaux résilients et innovants en environnement extrême (projet PEPR DIADEM, collaboration CEA-LPGP-IMN-SIMaP)

Biographie :

Dimitri Boivin est Post-Dcotorant à l’Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) de Nantes, au sein du groupe Plasmas et Couches Minces (PCM). Spécialiste des dépôts PVD en régime DC et HiPIMS. Il a réalisé son Master à l’université de Lorraine, effectué sa thèse à l’Institut Jean Lamour à Nancy. Il a fait un premier Post-Doctorat au GREMI sur des dépôts de couches minces pour des applications antibactérienne. Il a débuté le 1 Mars 2024 en tant que Post-Doctorant à l’IMN.

Publications :

7

Publication majeure illustrative :

Using a coupled optical and electrical monitoring method to follow the R-HiPIMS TiO2 deposition process drifts. Boivin, D & Jean-Marie-Desiree, Ronny & Najah, Aymane & Cuynet, Stéphane & Poucques, L.. (2024). Physica Scripta. 99. 10.1088/1402-4896/ad3302.

Lien vers orcid : https://orcid.org/my-orcid?orcid=0009-0009-9254-7989

Lien LinkedIn : https://www.linkedin.com/in/dimitri-boivin-92ba59234/

Chargée de Recherche CNRS

Directeur de Recherche CNRS

Fonction :

Chercheur CNRS

Expertises :

• Gravure de matériaux par plasma froids basse pression.
• Diagnostics des plasmas (spectrométrie d’émission optique, spectrométrie de masse, sondes électrostatiques).
• Caractérisation de surface (XPS, ellipsométrie).

Principales thématiques de recherche :

• Procédés plasmas rf à basse pression et étude des mécanismes d’interaction plasma – surface pour la gravure ou le traitement de matériaux.
• Gravure de V2O3
• Mécanismes d’interaction plasma – surface à basse température

Projets de recherche en cours :

Projet ANR 20-CE24-0014-02 PSICryo « Understanding plasma-surface interactions in cryogenic etching for advanced patterning applications », associant le LTM-Grenoble (porteur), le GREMI-Orléans et l’IMN-Nantes. Pour l’IMN il s’agit d’étudier les mécanismes de surface (chimisorption vs physisorption) impliqués dans les procédés de cryogravure, notamment en vue d’une gravure contrôlée à l’échelle atomique (ALE - atomic layer etching).

https://anr.fr/Projet-ANR-20-CE24-0014

Biographie :

Après un parcours universitaire et une thèse sur la caractérisation structurale de semi-conducteurs amorphes SiGe : H et Si : H,Cl par spectroscopies X et électronique, j’ai intégré le CNRS pour y travailler sur la caractérisation de surfaces et de matériaux en couches minces traités par plasma froids (1985-1988). Mon centre d’intérêt s’est alors étendu à l’étude des procédés plasma pour la gravure de matériaux semi-conducteurs, diélectriques ou métalliques (1988-présent).

Je me suis intéressé et formé à la physique des décharges excitées en radiofréquence dans les gaz à basse pression (~1 Pa) et à leurs diagnostics. J’ai ainsi développé une expertise sur la gravure des matériaux pour la microélectronique : Si, SiO2, organosiliciés low-κ, verres de silice et W en plasma fluoré (SF6, CHF3, C2F6), sur la gravure de matériaux pour la photonique : InP et CdHgTe en plasma CH4-H2 et dérivés, verres chalcogénure en plasmas fluorés et CH4-H2. Cela m’a amené également à développer une expertise sur la caractérisation physique et chimique des plasmas par spectrométrie de masse, spectrométrie optique en émission et sondes électrostatiques, ainsi que sur la caractérisation des surfaces et des interfaces par spectrométrie de photoélectrons, ellipsométrie et microscopie de champ proche.

Mon activité de recherche actuelle concerne la gravure de l’oxyde de vanadium V2O3 et les mécanismes fondamentaux de gravure et d’interaction plasma et gaz avec la surface à température cryogénique.

Publications :

122

Publications majeures illustratives :

Articles de revue
Ch. Cardinaud, M-C. Peignon, P.Y. Tessier “Plasma etching: principles, mechanisms, application to micro- and nanotechnologies” Appl. Surf. Sci. 164, 72-83 2000.
http://dx.doi.org/10.1016/S0169-4332(00)00328-7

C. Cardinaud “Fluorine-based plasmas: Main features and application in micro-and nanotechnology and in surface treatment” Comptes Rendus Chimie de l’Académie des Sciences 21, 723-739 2018.
https://doi.org/10.1016/j.crci.2018.01.009

Articles sur les mécanismes de gravure par plasma, les diagnostics des plasmas, l’interaction plasma-surface
Ch. Cardinaud, A. Rhounna, G. Turban, B. Grolleau “Contamination of silicon surfaces exposed to CHF3 plasmas: An XPS study of the film-surface interface” J. Electrochem. Soc. 135, 1472-1477, 1988. http://dx.doi.org/10.1149/1.2096034

Ch. Cardinaud, G. Turban “Mechanistic studies of the initial stages of etching of Si and SiO2 in a CHF3 plasma” Appl. Surf. Sci. 45, 109-120, 1990.
http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(90)90061-4

M-C. Peignon, Ch. Cardinaud, G. Turban “A kinetic study of reactive ion etching of tungsten in SF6 - O2 RF plasmas” J. Electrochem. Soc. 140, 505-512, 1993.
http://dx.doi.org/10.1149/1.2221077

Y. Feurprier, Ch. Cardinaud, G. Turban “Influence of the gas mixture on the reactive ion etching of InP in CH4 - H2 plasmas” J. Vacuum Sci. & Technol. B 15, 1733-1740 1997.
http://dx.doi.org/10.1116/1.589363

F. Gaboriau, G. Cartry, M-C. Peignon, Ch. Cardinaud “Selective and deep plasma etching of SiO2: comparison between different fluorocarbon gases (CF4, C2F6, CHF3) mixed with CH4 or H2 and influence of residence time” J. Vacuum Sci. & Technol. B 20, 1514-1521 2002.
http://dx.doi.org/10.1116/1.1495502

S. Bouchoule, R. Chanson, A. Pageau, E. Cambril, S. Guilet, A. Rhallabi, C. Cardinaud “Surface chemistry of InP ridge structures etched in Cl2-based plasma analysed with angular XPS” J. Vacuum Sci. & Technol. A 33, 05E124 2015.
http://dx.doi.org/10.1116/1.4927541

J. Piet, W. Faider, A. Girard, F. Boulard and C. Cardinaud “Investigation of organic precursors and plasma mixtures allowing control of carbon passivation when etching HgCdTe in hydrocarbon-based inductively coupled plasmas” J. Vacuum Sci. & Technol. A 38, 053005 2020. https://doi.org/10.1116/6.0000397

T. Meyer, A. Girard, G. Le Dain, A. Rhallabi, E. Baudet, M. Baillieul, V. Nazabal, P. Němec and C. Cardinaud “Mass spectrometry and in situ X-ray Photoelectron Spectroscopy investigations of organometallic species induced by the etching of germanium, antimony and selenium in a methane-based plasma” Plasma Sources Sci. & Technol. 32 (2023) 085003.
https://doi.org/10.1088/1361-6595/aceaa5

Articles liés à l’expertise en analyse XPS – collaborations extérieures
K. Tsougeni, N. Vourdas, A. Tserepi, E. Gogolides, C. Cardinaud “Mechanisms of Oxygen Plasma Nanotexturing of Organic Polymer Surfaces: From Stable Super Hydrophilic to Super Hydrophobic Surfaces” Langmuir 25, 11748-11759 2009.
http://dx.doi.org/10.1021/la901072z

E. Baudet, C. Cardinaud, A. Girard, E. Rinnert, K. Michel, B. Bureau, V. Nazabal “Structural analysis of RF sputtered Ge-Sb-Se thin films by Raman and X-ray photoelectron spectroscopies” J. Non-Cryst. Solids 444, 64-72 2016.
http://dx.doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2016.04.017

Lien vers publi HAL : https://hal.science/search/index?q=cardinaud+christophe

Lien vers orcid : https://orcid.org/0000-0002-9753-8848

Autres liens :

• Société Française du Vide
• Réseau des Plasmas Froids
• Formations plasmas froids en France

Fonctions :

Étudiante en doctorat

Principales thématiques de recherche :

Modélisation de plasma, procédé HiPIMS, couches minces, titane

Projets de recherche en cours :

Doctorat sur la modélisation multi-échelle du plasma en pulvérisation magnétron à impulsions de haute puissance (HiPIMS) pour le dépôt de couches minces de titane.

Activités dans la communauté de recherche :

Co-présidente de l’association SYRA.

Représentante des doctorants de Nantes auprès du Collège Doctoral Matière, Molécules, Matériaux et Géosciences (3MG).

Biographie :

Après un Master Science de la Matière (Matériaux Innovants et Systèmes pour l’énergie) à Nantes Université, j’ai eu l’opportunité de développer mes compétences au sein de l’équipe PCM à l’IMN, lors d’un stage de recherche sur les plasmas de gravure de semi-conducteurs, avant de me lancer dans un doctorat au sein de la même équipe, sur la modélisation de plasma en procédé HiPIMS, pour le dépôt de couches minces de titane.

Je m’investis dans l’association des doctorants SYRA de l’IMN, en tant que co-présidente. J’accorde également une grande importance au bien-être des doctorants et ai eu la chance d’être élue représentante des doctorants auprès du Collège Doctoral Matière, Molécules, Matériaux et Géosciences (3MG).

Enseignement :

UE XLG4PU050 Modélisation pour la Physique 2

Lien vers orcid : https://orcid.org/0009-0006-8897-197X?lang=en

Lien LinkedIn : www.linkedin.com/in/coline-chartrain-4372b3223

Maître de Conférences

Fonctions :

• 2023–présent : Maître de conférences, IMN – Nantes Université (groupe PCM)
• 2022–2023 : Attachée Temporaire d’Enseignement et de Recherche (ATER), GREMI – Université d’Orléans
• 2022 : Chercheuse postdoctorale, GREMI – Université d’Orléans
• 2019-2022 : Doctorante CIFRE / Ingénieure en microsystèmes, MISTIC SAS – Orléans

Qualifications :

• 2022 : Doctorat en Physique des plasmas, Université d’Orléans (GREMI / MISTIC SAS) Titre : Gravure du titane à fort rapport d’aspect pour innovations biomédicales
• 2019 : Master Recherche (Microélectronique et Nanoélectronique), Aix-Marseille Université
• 2018 : Diplôme d’ingénieur, Mines Saint-Étienne, spécialité dispositifs nanoélectroniques

Expertises :

• Gravure plasma (RIE, DRIE, ALE)
• Modélisation multi-échelle des procédés plasmas
• Plasma HiPIMS, PECVD, Bosch, cryogénique
• Caractérisation plasma (Langmuir, RFEA, OES), surface (XPS, DRX, AFM, SEM…)
• Microfabrication en salle blanche, structuration du titane

Principales thématiques de recherche :

• Gravure plasma du titane pour les MEMS (aspect ratio >10)
• Développement de procédés plasma innovants (fluorés, chlorés, mixtes)
• Simulation des interactions plasma-surface (Monte Carlo)
• Modélisation et IA pour l’optimisation des procédés plasma

Projets de recherche en cours :

• Modélisation HiPIMS (doctorat co-encadré, début 2024)
• FAISTOS 2025 (coll. Valeria Borodin – STMicroelectronics Tours – Gravure Bosch)
• Projet PULSAR (région Pays de la Loire – en cours d’évaluation)

Activités dans la communauté de recherche :

• Membre du copil du GDR EMILI
• Membre du CA de la Société Française de Physique – section Centre
• Membre des comités d’organisation :
• 2025 : COFMER
• 2024 : RAFALD
• 2023 : PlaCEP
• 2022 : J²C, PlaCEP, SFµ Junior

Biographie

Français :

Rim Ettouri est maître de conférences à l’Institut des Matériaux de Nantes (IMN), au sein du groupe Plasma et Couches Minces (PCM). Elle enseigne également au Département de Physique (mention « Électronique, Énergie Électrique et Automatique » - EEA) de l’UFR Sciences et Techniques de Nantes Université. Ses recherches portent principalement sur la modélisation multi-échelle des procédés plasmas basse pression, en particulier pour les procédés de gravure et de dépôt utilisés en micro et nanotechnologies. Elle développe des approches combinant simulations Monte Carlo, modélisation du plasma, et des surfaces, avec une intégration progressive de l’intelligence artificielle (IA) pour optimiser la prédiction et l’efficacité des procédés.

Titulaire d’un doctorat en physique obtenu en 2022 à l’Université d’Orléans, elle a travaillé sur la gravure plasma du titane pour les MEMS biomédicaux, en partenariat avec la startup MISTIC SAS. Elle a ensuite poursuivi ses travaux au GREMI avant de rejoindre l’IMN. En 2024, elle effectue un séjour scientifique au sein du groupe du Professeur Mark Kushner (Université du Michigan) spécialisé en modélisation des plasmas.

Elle est membre du comité de pilotage du GDR EMILI, active dans la communauté des plasmas froids, et s’investit également dans la médiation scientifique.

English

Rim Ettouri is an Assistant Professor at the Institut des Matériaux de Nantes (IMN), within the Plasma and Thin Films (PCM) group. She also teaches in the Department of Physics (Electronics, Electrical Energy and Automation - EEA) at Nantes University, Faculty of Science and Technology. Her research focuses on multi-scale modeling of low-pressure plasma processes for etching and deposition, with a strong interest in coupling simulation tools with experimental validation and artificial intelligence.

She earned her PhD in 2022 from the University of Orléans (GREMI / MISTIC SAS), where she developed deep etching processes for titanium-based biomedical MEMS. Following a postdoctoral fellowship, she joined IMN in 2023. Her current work involves plasma, sheath, and surface modeling, as well as Monte Carlo simulations for complex 3D structures. In 2024, she conducted a scientific stay in the group of Professor Mark Kushner (University of Michigan), a leading expert in plasma modeling.

Rim is a member of the GDR EMILI steering committee, actively participates in the cold plasma network, and is engaged in both teaching and scientific outreach.

Maître de Conférences

Fonctions :

• 2014-… Maître de conférences, Nantes Université, IMN équipe PCM (Plasma Couches Minces).
• 2013–2014 Ingénieur maturation, SATT, France, Ouest Valorisation, BatElecCir.
• 2011–2013 ATER, Université de Rennes 1, France, UFR sciences et propriétés de la matière, mention SPI, IETR, UMR6164.
• 2010–2011 ATER, Université de Rennes 1, IUT GEII, France, IETR, UMR 6164.
• 2009–2010 Postdoctorat, ENS Cachan Bretagne, France, équipe BIOMIS, SATIE, UMR 8029.

Qualifications :

• 2005–2008 Doctorat en génie électronique, Université de Rennes 1, Rennes, France.

Détection électronique par transistor à grille suspendue de marqueurs protéiques liés au métabolisme du fer.

Thèse au sein du Département de Microélectronique et Microcapteurs (D2M) de l’IETR (Institut d’Electronique et des Technologies du numéRique).

• 2002–2005 M.Sc.A : Maîtrise en Sciences Appliquées , Université de Sherbrooke, Canada.

Conception et fabrication d’un calorimétre pour cellule vivante.

Maîtrise en génie électrique, Majeure microélectronique avec projet de recherche en collaboration avec le MIT et l’université d’Auckland en Nouvelle Zélande.

• 2001–2002 Maîtrise EEA, Université de Marne-La-Vallée, France.

Maîtrise en Électronique, Électrotechnique et Automatique, Spécialités électronique, microélecronique et optronique.

• 1998–2001 ESTE, École Supérieure de Technologie Électronique, France.

Formation appartenant au groupe ESIEE, offrant en trois ans un niveau international certifié à un bachelor of engineering en électronique. Spécialités électronique et microélectronique.

Expertises :

• Les processus de gravure dans les plasmas à base de fluor (SF6, CHF3, CF4, C2F6).
• Les analyses de matériaux et de surfaces par spectroscopie de photoélectrons à rayons X.

Principales thématiques de recherche :

Ses intérêts scientifiques couvrent les aspects de fonctionnalisation et les questions récurrentes dans la gravure par plasma ainsi que le développement de processus. Actuellement, ses recherches portent sur la cryo-ALE (Cryogenic Atomic Layer Etching) et sur tous les mécanismes impliqués à l’interface plasma-surface lors de ce type de traitement.

Biographie :

Aurélie GIRARD est diplômée de l’Université de Sherbrooke, en 2005, en tant qu’ingénieur électricien spécialisé dans les biocapteurs et la microfabrication en collaboration avec l’Université d’Auckland et le MIT sur « Fabrication d’un microcalorimètre pour mesurer les propriétés thermodynamiques d’une cellule vivante ». Docteur en génie électrique de l’Université de Rennes (2008), spécialité Microélectronique liée aux biocapteurs, ses sujets de recherche, menés au cours de sa thèse et de plusieurs post-doctorats, combinent les procédés de fabrication et de caractérisation de dispositifs microélectroniques et la fonctionnalisation chimique de surface pour le greffage d’espèces biologiques : tout d’abord sur la fabrication et la fonctionnalisation électrochimique par des sels de diazonium de nanostructures et dispositifs à base de différents composés de silicium, puis sur la conception et la fabrication de multi-capteurs électrochimiques pour l’analyse de marqueurs de stockage lysosomal neurologique et d’accidents vasculaires cérébraux aigus. Ce projet a été réalisé en collaboration avec l’ENSCP. Enfin en 2014, elle a rejoint le groupe Plasmas et couches minces de l’IMN à Nantes, pour travailler en tant qu’enseignante chercheuse sur la gravure à sec de matériaux ayant des applications en microélectronique, en utilisant des plasmas réactifs RF à basse pression.

Enseignement :

Au sein de Nantes Université depuis septembre 2014, ses enseignements traitent principalement en électronique et en physique en L1, L3, M1 et M2 (formation initiale ou proposée en alternance (M2)) avec une organisation classique (cours, TD et TP) mais également sous forme de projets.

Publications :

Nombre de publications

• Plus de 25 publications dont 12 depuis 2019.
• Plus de 20 communications depuis 2019.
• Online ressource: Researchgate : http://www.researchgate.net/profile/Aurelie_Girard3

Publications majeures illustratives :

•  “An insight on plasma-surface interaction mechanisms during cryoetching in SiF4-O2, using in situ XPS”;
  C. Cardinaud, A. Girard, G. Antoun, J. Nos, T. Tillocher, R. Dussart ; Plasma Etch and Strip for Microelectronics (PESM), Louvain, Belgique, 19-23 septembre 2022.
•  “Quasi In Situ XPS on a SiOxFy Layer Deposited on Silicon by a Cryogenic Process”;
  G. Antoun, A. Girard, T. Tillocher, P. Lefaucheux, J. Faguet, K. Maekawa, C. Cardinaud and R. Dussart.; ECS J. Solid State Sci. Technol. 2022, 11, 013013.
•  “Surface composition and micromasking effect during the etching of amorphous Ge-Sb-Se thin films in SF6 and SF6 /Ar plasmas”;
  T Meyer, A. Girard, G LeDain, A. Rhallabi, E. Baudet, V. Nazabal, P. Nemec and C. Cardinaud. Appl. Surf. Sci. 2021, 549, 149192.
•  “Investigation of organic precursors and plasma mixtures allowing control of carbon passivation when etching HgCdTe in hydrocarbon-based inductively coupled plasmas”;
  J. Piet, W. Faider, A. Girard, F. Boulard and C. Cardinaud. Journal of Vacuum Science & Technology A 2020, 38, 053005.

Lien LinkedIn :https://www.linkedin.com/in/aurelie-girard-5916091b/

Professeur des Universités

Fonctions :

Enseignant chercheur à Polytech Nantes, Directeur adjoint recherche du pôle Sciences et Technologies de Nantes Université

Qualifications :

Professeur des Universités, CE1, 63 CNU

Expertises :

• Procédé de dépôt PECVD de matériaux diélectriques oxydes en couches minces.
• Couches minces Nanocomposites.
• Ellipsométrie UV-Visible et spectroscopies optiques.
• Technologies de composants en couches minces.

Principales thématiques de recherche :

• Développement de procédés hybrides innovants associant plasma (PECVD) basse pression et injection de solutions colloïdales pour le dépôt de matériaux nanocomposites
• Propriétés optiques, électriques et catalytiques de nanocomposites oxydes (TiO2(NPs)/SiO2 (Matrice) ; ZnO (NP)/SiO2(matrice) ; FeOy (NPs)/ TiO2 (matrice),….) : de la dispersion du nano-objet aux propriétés multifonctionnelles

Projets de recherche en cours :

• Projet ANR ADN : Advanced Dielectric Nanocomposite thin films processed by hybrid aerosol / low pressure plasma for microelectronic capacitor applications (2025-2028), en collaboration avec LAPLACE de Toulouse
• Participation à l’encadrement de la thèse de Sarah Hekking en collaboration avec L’université de Montréal (Pr Luc Stafford) et l’IRN-CNRS Nanomatériaux Multifonctionnels Contrôlés
• Couches minces nanocomposites incluant des nanoparticules Fe2O3 dans une matrice TiO2, produites par un processus de dépôt hybride combinant plasma et injection de solution

Activités dans la communauté de recherche :

Membre du GDRI –IRN Nanomatériaux Multifonctionnels Contrôlés

Biographie :

Antoine Goullet est professeur des universités (classe exceptionnelle) à Nantes Université, et membre de l’Institut des Matériaux Jean Rouxel de Nantes (IMN – UMR 6502). Ses travaux de recherche actuels portent principalement sur la synthèse et l’étude des propriétés optiques et électriques de couches minces diélectriques nanocomposites. Ces matériaux sont élaborés par des procédés hybrides innovants, associant l’injection de solutions colloïdales à des dépôts en phase vapeur assistés par plasma (PECVD), opérant à basse pression et basse température. Il est auteur ou co-auteur de plus de 80 publications scientifiques dans des revues internationales. Il a dirigé ou co-dirigé 10 thèses de doctorat soutenues, et encadré trois chercheurs en contrat post-doctoral. Responsable scientifique de plusieurs projets financés par l’ANR, il a également coordonné un projet européen (PHC) et participé à plus de 60 jurys de thèse. Après avoir exercé la fonction de directeur de la recherche de Polytech Nantes (2016–2021), il est depuis janvier 2022 directeur adjoint du pôle Sciences et Technologie de Nantes Université, en charge des questions de recherche.

Enseignement :

En cycle ingénieur à Polytech Nantes dans le département Electronique et Technologies Numériques (ETN) et dans le cycle préparatoire PEIP D à Polytech Nantes, adossé à la formation BUT GEII de l’IUT de Nantes

• Physique des Semiconducteurs (C/TD/TP),
• Microélectronique (C/TD/TP),
• Physique et Technologie (C/TD/TP),
• Suivi de projets ingénieur avec clients industriel,
• Tutorat pédagogique d’apprentis,

A l’interface avec Sciences Humaines et Sociales et ETN :

• Réseau professionnel
• Développement Durable et Responsabilités Sociétales

Publications :

Plus de 80

Publications majeures illustratives :

• Nanoscale dielectric properties of TiO2 in SiO2 nanocomposite deposited by hybrid PECVD method
  C. Villeneuve-Faure, M. Mitronika, A. P. Dan, L Boudou, W. Ravisy, M.P. Besland, M.. Richard-Plouet and A. Goullet
  Nano Express 5 (2024) 5, 015010; DOI 10.1088/2632-959X/ad220d
• Kinetics driving nanocomposite thin-film deposition in low-pressure misty plasma processes
  S. Chouteau, M. Mitronika, A. Goullet, M. Richard-Plouet, L. Stafford, A. Granier
  J. Phys. D: Appl. Phys. (2022) 55, 505303 ; DOI 10.1088/1361-6463/ac9ac2
• Unveiling a critical thickness in photocatalytic TiO2 thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition using real time in situ spectroscopic ellipsometry
  W. Ravisy, M. Richard-Plouet, B. Dey, S. Bulou, P. Choquet, A. Granier and A. Goullet
  J. Phys. D: Appl. Phys. (2021) 54, 445303 ; DOI 10.1088/1361-6463/ac1ec1
• In situ spectroscopic ellipsometry study of TiO2 films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition
  D. Li, M. Carette, A. Granier, J.P. Landesman, A. Goullet
  Appl. Surf. Sc. (2013) 283, 234 ; DOI 10.1016/j.apsusc.2013.06.091
• Optical spectroscopic analyses of OH incorporation into SiO2 films deposited from O2/TEOS plasmas
  A. Goullet, C. Vallée, A. Granier and G. Turban
  J. Vac. Sci. Technol. A (2000) 18, 2452; DOI 10.1116/1.1287152

Lien vers orcid : https://orcid.org/my-orcid?orcid=0000-0001-5411-4351

Lien vers scholar.google.fr : https://scholar.google.com/citations?user=8xWSg2wAAAAJ&hl=fr&oi=ao

Lien LinkedIn :https://www.linkedin.com/in/antoine-goullet-b1663110/

Directrice de Recherche

Fonctions :

Directrice de recherche CNRS (DR1) à l’IMN (80%) et Déléguée scientifique  » plasmas  » à CNRS Ingénierie (20%)

Expertises :

Procédés plasmas froids basse pression, dépôt de couches minces par PECVD à partir de précurseurs organométalliques, diagnostics des plasmas (OES, sonde de Langmuir, spectrométrie de masse).

Principales thématiques de recherche : 

•  dépôt de couches minces à propriétés diélectriques, optiques, photocatalytiques, barrière (SiO2, SiOCH, TiO2) par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
• dépôt de couches minces nanocomposites multifonctionnelles par injection de solutions colloidales dans un plasma basse pression (TiO2:SiO2, ZnO:SiO2…)
• étude des mécanismes d’interactions plasma/surface
• étude globale des procédés plasmas de synthèse de nanomatériaux et dépôt de couches minces

Projets de recherche en cours :

• Dépôt de couches minces nanocomposites en plasma brumeux, par procédé hybride : injection d’une solution colloidale dans un plasma basse pression.
• Couches minces nanocomposites formées de nanoparticules d’oxyde de fer dans une matrice de TiO2 (en collaboration avec UdM, Montréal)
• Couches minces nanocomposites formées de nanoparticules de TiO2 dans une matrice de SiO2, propriétés diélectriques (projet ANR ADN, 2025-2028)

Activités dans la communauté de recherche :

• Membre du CA de la Société Française du Vide
• Membre du réseau Plasmas Froids et du GDR EMILI

Biographie

• 2013-2021 : Directrice adjointe de l’IMN
• 2017-2020 : Membre du Comité d’évaluation CE08 de l’Agence Nationale de la Recherche
• 2012-2016 : Membre nommée du Comité National de la Recherche Scientifique, section10
• 2005-2012 : Responsable de l’équipe Plasmas et Couches Minces de l’IMN (25-30 personnes)
• 2012-2015 : Membre du Conseil de l’Ecole Doctorale 3MPL (Molécules, Matières et Matériaux en Pays de Loire)
• 2008-2011 : Membre du Comité d’évaluation de l’ANR non thématique (CSD2 puis SIMI9)
• 2004-2006 : Animatrice du Réseau Plasmas Froids de la MRCT (CNRS) (400 membres)
• 2001-2003 : Chargée de mission au Département SPI (Sciences pour l’Ingénieur) du CNRS
• 1998-2005 : Responsable de l’équipe PECVD du Laboratoire Plasmas Couches Minces de l’IMN
• 1994-1997 : Directrice du GDR « Procédés de dépôt de couches minces à partir de plasmas d’organosiliciés« 
• 1986-1992 : Chargée de recherche (CR2 de 1986 à 1990, puis CR1) au Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas (Orsay)

Maître de Conférences

Fonctions : 

• Maître de conférences HC
• Directrice adjointe de l’IMN
• Coordinatrice plateforme PLASSMAT
• Référente CNRS Développement Durable

Expertises :

Microscopie électronique en transmission

Enseignement :

UFR Sciences & techniques - Département de Chimie

Lien vers orcid : https://orcid.org/0009-0008-0063-451X

Chargé de Recherche CNRS

Fonctions :

• Chargé de Recherche au CNRS (Section 15 - Chimie des matériaux, nanomatériaux et procédés)
• 2023-2025 : Lauréat d’une bourse Marie Skłodowska-Curie Individual Fellow (MSCA-PF)
• 2020-2023 : Chercheur postdoctoral avec Pf. J. P. Hofmann, Pf. W. Jaegermann et Dr. T. Mayer à l’Université technique de Darmstadt, Allemagne

Qualifications :

• 2019 : Thèse de doctorat de l’Université de Lyon en Physique Chimique et Catalyse sous la direction de Dr. C. Geantet, Dr. E. Puzenat, Dr. L. Cardenas, Dr. P. Afanasiev
• 2016 : Master de l’ENSMAC (ex ENSCBP) et de l’Université de Bordeaux, spécialité Physique Chimique, Chimie des Matériaux et Energie.

Expertises :

La spectroscopie de photoélectrons au service de matériaux pour la conversion de l’énergie solaire.

Principales thématiques de recherche :

• Couches minces et nanopoudres : oxydes, oxynitrures, chalcogénures
• Spectroscopies de photoélectrons : (XPS, UPS, Synchrotron)
• Photocatalyse, Photoélectrocatalyse, Carburants solaires

Projets de recherche en cours :

• Coordinateur du Projet Marie Skłodowska-Curie Individual Fellow (MSCA-PF) “Valence band engineering of oxidation materials for cheap and sustainable solar fuel production” (OMATSOLFUEL) (2023-2025).
• Membre de l’ANR “Visible-light Photocatalysis with Ambipolar layered CHAlcogenides for Solar fuel generation” (PACHAS) (2025-2029).
• Membre de l’ANR “Bi-Based nanOmaterials for Photocatalysis” (BiBOP) (2024-2028)
• Membre de l’ANR “Development of a membrane-cell for in situ NAP-XPS characterization” (NACELL) (2022-2027)
• Membre du projet MITI “Des matériaux Moins nobles pour une cause Noble : vers le verdissement de la dépollution des Eaux à grande échelle par électro-oxydation » (DauMiNEau) (2024-2025)

Activités dans la communauté de recherche :

• Membre du GDR CarMANano (Groupement De Recherche Caractérisation et mesures à l’échelle nanométrique)
• Responsable de la page Linkedin de la Fédération de Recherche Spectroscopies de Photoémission (FR SPE)

Biographie :

Clément Maheu est chargé de recherche CNRS à l’Institut des Matériaux de Nantes Jean Rouxel (IMN) depuis 2023. Spécialiste des matériaux pour la conversion d’énergie solaire, il conçoit et caractérise des semi-conducteurs (oxydes, chalcogénures, oxynitrures…) pour la production photo(électro)catalytique d’hydrogène et de molécules à haute valeur ajoutée. Il a notamment une forte expertise en en spectroscopie de photoélectrons (XPS, UPS, SXPS) pour caractériser la surface de ces matériaux.

Il a obtenu son doctorat à l’IRCELYON, sous la direction des Dr Afanasiev, Cardenas, Géantet et Puzenat, sur des co-catalyseurs de sulfures de métaux de transition supportés sur TiO2 pour la photoconversion d’alcools. Il a approfondi son expertise en spectroscopie de photoélectrons à l’Université Technique de Darmstadt, avec le Dr Mayer, les Pr. Jaegermann et Hofmann, appliquant ces techniques à des matériaux pour l’énergie (photovoltaïque, batteries, ou encore piles à combustible). De retour en France, il rejoint l’IMN, d’abord en postdoc dans le cadre d’une bourse européenne Marie Skłodowska-Curie, puis comme titulaire. En 2024, il reçoit le prix Chercheur Junior de la Division Transversale Énergie de la Société Chimique de France. Depuis peu, il initie des collaborations avec des chercheurs en sciences humaines et sociales pour questionner le déploiement des technologies photo(électro)catalytiques et maximiser leur impact environnemental et social.

Distinctions : 

• Prix chercheur junior de la Division Transversale Energie de la Société Chimique de France
• Prix de thèse de la Division Catalyse 2020 de la Société Chimique de France

Publications :

33 (à la date du 05/2025)

Publications majeures illustratives :

• C. Maheu, V. Vandalon, M. Mattinen, T. Mayer, A. A. Bol, J. P. Hofmann, p-Type Al-Doped MoS2 Nanosheet Films: Electronic and Chemical Interface Properties with Gold for Electronic Device Integration, ACS Applied Nano Materials, 2025, 8, 9669.
• V. Nikolaou, D. Romito, C. Maheu, J. Hamon, E. Gautron, F. Massuyeau, S. Jobic, F. Odobel, Dual solar-driven hydrogen evolution and alcohol oxidation with CdS quantum dot-sensitized photocatalysts prepared by the SILAR methodology, Journal of Materials Chemistry A, 2024, 12, 30885-30891.
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Chargé de Recherche CNRS